11月11日訊，國家科技部重點研發(fā)專項——“微納電子制造用超高純電子氣體”項目啟動會昨日在浙江衢州召開。

國家科技部高技術(shù)中心材料處專項主管楊斌向獲得國家重點研發(fā)“微納電子制造用超高純電子氣體”的項目團隊表示祝賀。“國家重點研發(fā)計劃實施以來，在管理上發(fā)生了很大的改革和變化，已從原來過程監(jiān)控管理轉(zhuǎn)變?yōu)槟繕斯芾?、靜態(tài)管理變?yōu)閯討B(tài)管理、階段性管理變成全過程跟蹤管理。”楊斌強調(diào)，要發(fā)揮項目牽頭承擔(dān)單位法人的主體責(zé)任，與協(xié)作單位共同推動項目的發(fā)展。

微納電子制造用超高純電子氣體

研究內(nèi)容：研究超高純電子氣體提純/除雜/純化原理與制備方法、特定元素控制技術(shù)及全流程工藝優(yōu)化集成技術(shù)，研制開發(fā)微納電子制造用氯氣、氯化氫、氟化氫等超高純電子氣體，突破5N級氣體制備技術(shù)及關(guān)鍵裝備技術(shù)、ppm級氣體雜質(zhì)和ppb級金屬離子檢測技術(shù)、生產(chǎn)環(huán)境和顆?？刂萍夹g(shù)以及產(chǎn)品包裝與應(yīng)用技術(shù)。

考核指標：超高純氣體氯氣、氯化氫純度5N～7N，其中單種氣體雜質(zhì)（如H2O、O2、CO2、CO、CH4）＜1.0 ppmv，單種金屬雜質(zhì)（如Al、Cr、Cd、Cu）＜1.0 ppbw；超高純氣體氟化氫純度不低于5N，其中單種金屬雜質(zhì)（如Al、Cr、Cd、Cu）＜1.0 ppbw。

微納電子制造核心材料急需國產(chǎn)化

微納電子先進制程正向大尺寸、窄線寬、高集成度、高均勻性和高完整性發(fā)展，對電子氣體的品質(zhì)也提出更高的要求。Cl?、HCl 和HF 等電子氣體產(chǎn)品是微納電子制造的核心材料，具有強烈嗜水性、腐蝕性和反應(yīng)性，其提純除雜、包裝、檢測對材料、設(shè)備的耐蝕性要求嚴苛，高純制備核心技術(shù)為跨國公司壟斷并嚴密封鎖，“國產(chǎn)化”需求迫切，急需國內(nèi)有研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化實力的單位牽頭進行技術(shù)攻關(guān)與工程化開發(fā)。

科技部重點研發(fā)專項“微納電子制造用超高純電子氣體”

“微納電子制造用超高純電子氣體”是2017年國家重點研發(fā)計劃“戰(zhàn)略性先進電子材料”專項項目，由巨化集團下屬全資子公司浙江博瑞電子科技有限公司牽頭，聯(lián)合浙江師范大學(xué)、浙江氟硅技術(shù)研究院、浙江凱圣氟化學(xué)有限公司、中芯國際集成電路制造（上海）有限公司、深圳市華星光電技術(shù)有限公司和浙江工程設(shè)計有限公司等6家單位共同申報，并于今年8月獲得國家科技部立項支持，用以解決Cl?、HCl和HF高純制備中影響氣體純度與一致性的關(guān)鍵共性科學(xué)問題和技術(shù)瓶頸為研究目標，突破Cl?、HCl和HF的提純除雜、檢測、包裝工藝，實現(xiàn)超高純Cl?、HCl和HF電子氣體的工業(yè)化制備和制程應(yīng)用，促進微納電子制造用戰(zhàn)略性先進材料的國產(chǎn)化。